Acquisition, livraison et mise en service d’un bâti de gravure plasma au sein de l’Institut des NanoSciences de Paris (INSP)

Description

L’Institut des NanoSciences de Paris (INSP) est une unité mixte de recherche du CNRS et de Sorbonne Université. Dans le cadre de ses activités de micro-nanofabrication de dispositifs et de composants, l’INSP souhaite acquérir un bâti de gravure plasma. Les principaux besoins auxquels devra répondre l’équipement sont les suivants: •Gravure de silicium de plusieurs dizaines de micromètres •Gravure profonde de Silicium de plus de 100 µm •Gravure d’oxydes (SiO2, TiO2) plusieurs micromètres •Gravure de métaux <100 nm L’équipement attendu est une machine de gravure par plasma de type RIE-ICP (Reactive Ion Etching – Inductively Coupled Plasma) constitué de deux électrodes qui génèrent un plasma uniforme de haute densité à partir d’une source inductive, et d’une cathode indépendante pour polariser les substrats. L’équipement devra comporter un module de gravure profonde du silicium et un système de détection de fin d’attaque par interférométrie laser. Le présent marché comprend à minima : • L’acquisition • Performances techniques et fonctionnelles minimales attendues de l’instrument • La livraison assurée par le titulaire • L’installation et la mise en service • La formation aux utilisateurs • La garantie contractuelle et support associé Les performances techniques et fonctionnelles minimales attendues de l’équipement sont précisées aux documents de la consultation.