Echipament pentru nanolitografie

Description

Obiectul contractului îl reprezinta achiziţia unui: Echipament de tip „sistem de litografie cu fascicul de electroni” (Electron Beam Lithography – EBL), sau "echipament pentru nanolitografie", cu fascicul gaussian și scanare vectorială, dedicat aplicațiilor de înaltă rezoluție și viteză. Sistemul trebuie să includă toate subsistemele necesare, precum și toate componentele software și de control asistat de calculator necesare operării complete. Singurele utilități puse la dispoziție de către achizitor vor fi: alimentarea electrică, aerul comprimat curat (CDA) și azotul uscat. Echipamentul ce urmează a fi achiziționat va fi folosit exclusiv în scop de cercetare avansată în domeniul nanotehnologiilor, în special pentru structuri sub-10 nm și modele complexe pe substraturi de dimensiuni variate. Termenele in care autoritatea contractanta va raspunde in mod clar si complet tuturor solicitarilor de clarificare/informatiilor suplimentare solicitate de operatorii economici interesati: în a 11-a zi inainte de termenul limită stabilit în anunțul de participare pentru depunerea ofertelor. Numarul de zile pana la care se pot solicita clarificari, inainte de data limita de depunere a ofertelor este de 18 zile.