Bezmaskový laserový litografický systém/Direct-Write Optical Lithograph

Description

Předmětem této veřejné zakázky je moderní bezmaskový laserový litografický systém určený pro přímý laserový zápis jemných struktur na různé typy a velikosti substrátů. Jedná se o specializované laboratorní zařízení, které umožňuje vytváření přesně definovaných mikro- a nanostruktur bez nutnosti použití klasických fotolitografických masek. Účelem požadovaného zařízení je rozšíření technologické možnosti pracoviště v oblasti přípravy mikro- a nanostruktur. Zařízení umožní flexibilní a rychlou přípravu struktur bez nutnosti výroby fotomasek, čímž dojde ke zefektivnění výzkumných a vývojových činností. Pořízení zařízení přispěje ke zvýšení kvality, efektivity a konkurenceschopnosti výzkumných aktivit pracoviště. Podrobně je předmět veřejné zakázky vymezen technickými, obchodními a jinými smluvními podmínkami, které jsou součástí zadávací dokumentace.