Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching)
Purchaser
INSTITUTUL NATIONAL DE CERCETARE-DEZVOLTARE PENTRU FIZICA MATERIALELOR
Country
Romania
Notice published
27 Apr 2026
Tenqual indexed
29 Apr 2026
Closing date
Not listed
Source ID
Docs found
—
Save this notice and create a tender alert for similar public opportunities.
- Create one free tender alert.
- See a short explanation of why each tender matches.
- Upgrade later when you want help planning and writing the bid.
Tender summary
Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) cu plasmă cuplată inductiv, numit în continuare Sistem de gravură ICP-RIE, va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂).
What to check before bidding
- Issued by INSTITUTUL NATIONAL DE CERCETARE-DEZVOLTARE PENTRU FIZICA MATERIALELOR.
- Located in Romania.
- Source notice 285723-2026 on TED.
- Notice published 27 Apr 2026; Tenqual indexed it 29 Apr 2026.
- No closing date is listed yet.
- Create a free tender alert to catch similar opportunities before the deadline pressure starts.