Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie
Purchaser
Friedrich-Schiller-Universität Jena
Country
Germany
Notice published
14 Apr 2026
Tenqual indexed
16 Apr 2026
Closing date
Not listed
Source ID
Docs found
—
Save this notice and create a tender alert for similar public opportunities.
- Create one free tender alert.
- See a short explanation of why each tender matches.
- Upgrade later when you want help planning and writing the bid.
Tender summary
Es soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2.
What to check before bidding
- Issued by Friedrich-Schiller-Universität Jena.
- Located in Germany.
- Source notice 252887-2026 on TED.
- Notice published 14 Apr 2026; Tenqual indexed it 16 Apr 2026.
- No closing date is listed yet.
- Create a free tender alert to catch similar opportunities before the deadline pressure starts.